Das MEMS Technology Lab am ISAS ermöglicht die vollständige Herstellung von MEMS Strukturen vom Wafer ausgehend bis hin zum Vereinzeln und Drahtbonden von Bauelementen.

Ein Einblick...

Sputteranlage

Sputteranlage in einem Labor mit Gasschränken und einer Chemiebank im Hintergrund

© Michael Schneider

DC/RF Magnetron Sputtern

LPCVD

Plasmaglühen in der Vakuumkammer einer LPCVD

© Georg Pfusterschmied

Low Pressure Chemical Vapour Deposition

Photolithographie

Photolack während des Aufspinnens

© Sophia Ewert

DRIE

DRIE Anlage mit Vakuumkammer und Schleuse

© Michael Schneider

Deep Reactive Ion Etching (Bosch-Prozess)

PECVD

PECVD Anlage mit Vakuumkammer und Schleuse

© Michael Schneider

Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition

Sputteranlage

Vakuumabscheideanlage

Dual Ion Beam Sputter Deposition